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Products / 製品情報

金属チタンー高純度チタン

写真  4N5(純度99.995%)ないし5N(純度99.999%)の高純度チタンは、DRAMなどの半導体の薄膜形成用スパッタリングターゲット材として、半導体の高機能化に貢献しています。

用途

主として半導体の薄膜形成用スパッタリングターゲット

プロダクトライン

純度 :4N5(99.995%) ないし 5N (99.999%)
形状 :インゴット及びビレット

仕様
仕様例 (4N5) [Ti : % min., その他 : ppm max.]
  Ti Fe Ni Cr Mn Al Si Sn Cu Na K O C
規格 99.995 15 10 5 5 5 5 5 5 0.05 0.05 500 50
Typical Balance 5 3 <1 <1 <1 <1 <1 <1 <0.05 <0.05 250 20

・ガス状成分は、不純物として含まれません。
・仕様は需要家の要求により異なります。

チタン営業部
TEL:0467-87-7023 FAX:0467-82-6661

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